】 De la introducción del 【:
La litografía de TG2U se utiliza en la LSI, sensor, componente de la onda superficial, burbuja magnética, microonda, CCD y así sucesivamente.
】 De la observación del 【:
Parámetro técnico de la litografía TG2U:
tamaño 1.Template:
a.100×100×2-3mm;
b.75×75×2-3mm:
2. tamaño del silicio: Φ50-Φ75mm, línea anchura verdadera los 3-4цm;
3. dislocación del comparativo entre la plantilla y el silicio:
、 Y ≥±2.5mm de a.X;
b.θ (girar) ≥±5°;
la estación 4.support (silicio) gira axies de Z: 360° de adaptación áspero, multa - ±5 de adaptación;
gama móvil 5.Integrated de estación de trabajo: X el、 Y integra Φ75mm;
6. el espacio entre la estación de la bola y la plantilla básicas: 0-7m m;
7. sistema de la exposición: GCQ200W sobre la bola de alta presión hectogramo, longitud de onda de la exposición: 300~436nm;
8.engergy no es menos que 407nm de la longitud de onda; los 7mw/cm;
9. desigual está dentro de Φ75mm: el ±5%:
10. longitud de onda de iluminación: ≈545nm;
11 tiempo de exposición: Minutos de O.01 seconds-99.99;
12. la gama de concentración de binocular: 13m m;
13. el zumbido de binocular:
ocular de los pares del A.: lOX, 16X;
objetivo plano del campo del B.: 6X, 9X, 15X;
zumbido del total de la C. hacia fuera: 60X-240X;
. presión conmovedora del vacío 14: ≥O.7Kgf;
. fuente de alimentación 15:
a.frequency: 50HZ (Z);
voltaje de entrada de b.rotated: 190V-230V;
consumición de c.power: ≤300VA;
16.Dimension: ） de las cajas del （2 de 1000X850X980m m
17.Weight: ≈200Kg;
(1) fuente del vacío: ≥450mm hectogramo;
(2) el dispositivo de la estabilidad del suministro de aire está abajo
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