【Introducción】：
La litografía TG2U se utiliza en LSI, sensores, componentes de ondas superficiales, burbujas magnéticas, microondas, CCD, etc.
【Observación】：
Litografía TG2U Parámetro técnico:
1．Tamaño de la plantilla:
a．100×100×2-3 mm；
b.75 × 75 × 2-3 mm:
2．tamaño de silicio: Φ50-Φ75 mm, ancho de línea real 3-4цm;
3．desplazamiento comparativo entre plantilla y silicio:
a．X、Y ≥±2．5mm；
b．θ(rotar)≥±5°；
4. La estación de soporte (silicio) gira los ejes Z: ajuste aproximado 360°, ajuste fino ±5;
5.Rango móvil integrado de la estación de trabajo: X, Y integran Φ75 mm;
6．el espacio entre la estación básica de la bola y la plantilla: 0-7 mm;
7．sistema de exposición: GCQ200W sobre bola de alta presión Hg, longitud de onda de exposición: 300 ~ 436 nm;
8. La energía no es inferior a 407 nm de longitud de onda; 7 mw/cm;
9．desigual está dentro de Φ75mm ：±5％：
10．longitud de onda de iluminación: ≈545 nm;
11．tiempo de exposición: O．01 segundos-99．99 minutos；
12．el rango de enfoque de los binoculares: 13 mm;
13．el zoom de binocular:
a.par ocular: 16X;
b.Objetivo de campo plano: 6X, 9X, 15X;
C.alejamiento total: 60X-240X;
14．Presión de contacto al vacío: ≥O.7Kgf;
15.fuente de alimentación:
a.frecuencia: 50 HZ(Z);
b. Voltaje de entrada girado: 190 V-230 V;
c. Consumo de energía: ≤300VA;
16．Dimensión:1000X850X980mm（2 cajas）
17. Peso: ≈200 kg;
(1) suministro de vacío: ≥450 mm Hg;
(2) El dispositivo de estabilidad del suministro de aire está debajo
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